【商品简介】：

产品特点：
TG2U型光刻机是制造中，大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻设备。
欢迎您联系我们获得光刻机(TG2U型)的更多信息。

参数

适用的掩模尺寸

a.100X100X2－3mm；b.75X75X2—3mm；c.63X63X2—3(选购)；

适用的硅片尺寸

φ35—75mm

光刻图形线条

3-4μm, 最细可达2μm

掩模与硅片之间的相对位移范围

X/Y±2.5mm,(族转) ±6°

承片台(硅片)绕主轴旋转

粗调360度,可微调

承片工作台综合移动范围

X,Y合成φ75mm

承片台的球座平面至掩模板面升降

0—7.5mm

曝光灯源

GCQ200W超高压汞灯，曝光波长，300―436nm

曝光系统能量不低于

7mw

曝光系统的照度均匀度在φ75mm范围内

±5％

显微镜的照明波长

≈545nm

曝光时间控制范围

0.1秒—99分

双目显微镜的放大倍数

a.目镜共二种:10X,16X；b.平视场物镜共三种:6X,9X,15X；c.合成放大倍率:60X—240X；

真空接触压力

≥0.7kgf

装箱尺寸

1000X850X980mm(2只)

装箱重量

200kg